Станок для лазерной очистки металлов XTLASER XTL-QXC2000
Станок для лазерной очистки металлов XTLASER XTL-QXC2000
Технические характеристики
| Система управления | Hanwei |
| Чистящий пистолет | Hanwei |
| Лазерный источник | Raycus |
| Мощность лазера | 2000 Вт |
| Диаметр сердцевины волокна | 200 Нм |
| Производительность макс. | 4,5 м²/ч |
| Длина волны | 1064±5 нм |
| Частота импульсов | 10-50 кГц |
| Длина наружной части кабеля | 8 м |
| Ширина сканирования | 10-90 мм |
| Скорость сканирования | 1000-8000 мм/сек |
| Вес лазерного пистолета | 2 кг |
| Охлаждение | водяной чиллер |
| Источник питания | 380В, 50-60 Гц |
| Потребляемая мощность | 5,5 кВт |
| Габаритные размеры | 1190х620х1170 мм |
| Вес | 300 кг |
| Рабочая температура | 5-40°C |
Смотрите также:
Модельный ряд:
| Модель | Толщина металла, мм | Мощность, кВт | Рабочая зона, мм | Цена | |
|---|---|---|---|---|---|
|
|
- | 1,5 | - | ||
|
|
- | 3 | - | ||
|
- | 0,2 | - | ||
|
|
- | 0,3 | - | ||
|
|
- | 0,5 | - |
