Станок для лазерной очистки металлов SENFENG SF2000HC
Станок для лазерной очистки металлов SENFENG SF2000HC
Технические характеристики
| Может устанавливаться лазерный излучатель мощностью | 1,5 кВт , 2 кВт |
| Рабочая зона, мм | 1-20 мм х 1-100 мм |
| Система управления | SENFENG |
| Длина волны лазера | 1070 нм |
| Вид охлаждения | промышленный чиллер |
| Максимальная скорость, м/мин | 13000 мм/с |
| Лазерный источник | Raycus, IPG (опция), MAX |
| Максимальная энергия одиночного импульса (мДж) | 25 |
| Области применения | обработка |
| Мощность излучателя | 2000 Вт |
| Обрабатываемые материалы | Листовой алюминий, Нержавеющая сталь, Оцинкованная сталь, Углеродистая сталь |
| Тип лазерного излучателя (тип лазера) | Оптоволоконный иттербиевый |
| Время работы лазерного излучателя (cрок работы лазера) | 100 000 часов |
| Общий вес без упаковки (кг) | 220 |
| Габариты (ВхШхД) | 954*715*1080 |
| Максимальная мощность | 2 кВт |
| Способ установки | напольное |
| Сертификация | CE, ISO |
| Параметры мощности, напряжение питания | 380В ± 10% |
| Гарантия | 2 года |
| Серия SENFENG | HC |



